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新一代低分馏效应GRACE 193nm激光剥蚀系统

2018-10-15

通常激光剥蚀过程中,当光斑大小降至50μm以下(通常LA-ICP-MS U-Pb测试一般使用30μm左右),元素分馏将非常的明显,通常会在10-40%,而光斑降到更小的尺寸,分馏会更为明显,通过辅助手段并不能很好的解决激光剥蚀过程中元素的分馏,新一代的GRACE激光剥蚀系统能将分馏降至更低的水平,因此能够以更小的光斑完成矿物的同位素比值及元素含量的测试。

GRACE 193nm激光剥蚀系统:

1、193nm工作波长。

2、平顶光斑(Top-hat beam)。

3、低元素分馏效应。

4、高空间分辨率(LA-ICP-MS 锆石U-Pb测试可达到10-20μm的实用光斑直径)。

5、高的能量利用率。

新一代低分馏效应GRACE 193nm激光剥蚀系统
原型机
新一代低分馏效应GRACE 193nm激光剥蚀系统
自主研发GRACE 193nm激光剥蚀系统

 

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